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真空爐按結構分可分為立式及臥式兩種系列,立式系列又分為鐘罩升降式與底部托盤升降式兩種。臥式系列又分單開門結構與前后雙開門結構兩種。爐體均采用水冷夾壁結構。
真空燒結爐主要用于半導體元器件及電力整流器件的燒結工藝,可進行真空燒結,氣體保護燒結及常規燒結,是半導體專用設備系列中一種新穎的工藝裝備,它設計構思新穎,操作方便,結構緊湊,在一臺設備上可完成多個工藝流程。亦可用于其他領域內的真空熱處理,真空釬焊等工藝。
氫氣爐按結構可分為立式及臥式兩種,其中立式又分為鐘罩升降式與底部托盤升降式。爐體均采用水冷夾壁結構,外層為碳鋼,內層為優質不銹鋼。臥式系列為單開門結構、外加熱方式。
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